半导体晶圆厂CMP制程过氧化氢浓度管控方案 GT-1000检测仪现场应用指南

随着国内半导体自主化产业高速发展，晶圆CMP化学机械抛光工艺的精细化管控水平，直接决定国产芯片制造品质与产能规模，而过氧-化氢氧化剂浓度管控，是CMP制程工艺管控当中最核心的一环。

抛光液内部过氧-化氢含量失衡，是造成晶圆表面腐蚀、抛光不均、去除速率异常等不良品产生的主要诱因；而生产现场挥发溢出的过氧-化氢气体，会持续破坏无尘洁净车间生产环境，对光刻、离子注入、薄膜沉积等高精度制程造成不可逆影响，双重风险倒逼晶圆企业建立常态化浓度检测机制。

科尔诺GT-1000便携式过氧-化氢检测仪，针对半导体无尘车间工况环境与CMP工艺检测痛点深度研发，硬件配置、外观结构、功能逻辑全部贴合晶圆工厂实际生产需求。

仪器采用低浓度高灵敏电化学传感核心，可精准识别车间ppb级微量挥发气体，高量程版本可直接匹配抛光液高浓度组分检测需求；整套采样气路采用半导体专用特氟龙材质，耐氧化、低吸附、无杂质析出，严格保障高纯度检测环境不受污染。

在实际现场工艺管理当中，工作人员可严格按照标准化流程完成定点定时采样检测，单点位持续采样5分钟采集平均浓度与峰值浓度，真实反映现场浓度真实状态；依托设备数据导出功能，长期汇总浓度数据，梳理工艺波动规律，持续优化抛光液配比、机台排风效率、清洗工艺参数。

整机IP67高防护结构，无凹凸积尘结构，日常使用无尘布即可快速完成清洁消杀，契合无尘车间日常管理标准；长续航设计可满足厂区多栋厂房、多条产线不间断巡检工作，大幅提升厂区工艺巡检与环境安防工作效率，是半导体企业完-善CMP制程质控体系、筑牢无尘车间环境安全防线的核心配套检测设备。